據(jù)中國政府采購網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團）股份有限公司中標zycgr22011903采購步進掃描式光刻機項目，設(shè)備數(shù)量為一臺，成交金額10999.985萬元。

公開資料顯示，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)，是我國極少數(shù)具有光刻機整機集成研發(fā)能力的廠商，公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。

步進掃描光刻機（Scanner）是現(xiàn)代投影式光刻的主流形態(tài)，通過狹縫動態(tài)掃描與步進拼接實現(xiàn)大面積高分辨率圖形轉(zhuǎn)移。其核心是在曝光視場內(nèi)以高速同步掃描完成一次成像，再移動到下一視場重復(fù)過程，從而在大曝光視場與高分辨率之間取得平衡。典型參數(shù)包括：單次掃描狹縫約26 mm × 8 mm，最大曝光視場可達26 mm × 33 mm；掩模與晶圓反向同步掃描，掩模掃描速度可至約2400 mm/s，對應(yīng)晶圓速度約600 mm/s，以提升產(chǎn)能。該方式已成為DUV與EUV前道制造的主力設(shè)備形態(tài)（校對/李梅）