當地時間1月28日，全球半導體設備龍頭——荷蘭光刻機巨頭ASML在公布創紀錄財報的同時，宣布了一項決定：裁員1700人，占全球員工總數近4%。

這是自2010年公司開啟長期擴張以來規模最大的一次裁員，且主要集中在荷蘭總部與美國分部的中高階管理崗位。更令人意外的是，這一舉措發生在ASML業績屢創新高、訂單積壓達388億歐元、市場前景一片光明的背景下。

財報顯示，ASML 2025年第四季度凈銷售額達97億歐元，全年銷售額突破327億歐元，凈利潤高達96億歐元，均刷新歷史紀錄，并實現連續13年營收增長。尤為亮眼的是，當季新增訂單額達132億歐元，遠超市場預期，其中極紫外光刻（EUV）設備訂單高達74億歐元。

ASML還確認了兩臺最先進的High NA EUV系統的收入，標志著下一代光刻技術已進入商業化交付階段。

面對如此強勁的基本面，為何還要大規模裁員？公司CEO克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）解釋稱，此舉“與財務狀況無關”，而是為了精簡組織架構、減少流程內耗，讓工程師更專注于核心技術研發。

ASML CFO羅杰·達森（Roger Dassen）進一步指出，經過十余年高速擴張，公司管理層級日益臃腫，決策鏈條拉長，已影響運營效率。此次裁員聚焦年資較長的中高層管理者，意在“回歸扁平化、敏捷化的工程文化”。

盡管管理層強調這是“戰略優化”，但許多被裁員工感到錯愕甚至寒心。“公司業績、前景都這么好，卻突然開刀，太無情了，”一位資深員工向媒體坦言。

資本市場對此卻反應積極。消息公布后，ASML美股盤前一度大漲近10%，投資者普遍認為，在需求持續旺盛的背景下，提升運營效率將進一步放大利潤空間。

分析機構普遍上調其2026年盈利預期，并指出：AI芯片軍備競賽已進入白熱化階段，臺積電、三星、英特爾等巨頭紛紛加速先進制程擴產，對EUV及下一代High NA EUV光刻機的需求將持續數年。

據Counterpoint預測，2026年全球EUV設備出貨量將突破100臺，其中ASML占據近乎100%份額。而High NA EUV作為3納米以下節點的關鍵設備，單價超3.5億歐元，目前僅臺積電和英特爾確認采購，未來隨著2納米及GAA晶體管普及，需求將爆發式增長。ASML預計，High NA平臺將在2027年后成為新的增長引擎。

為匹配這一趨勢，ASML同步宣布啟動120億歐元股票回購計劃，并規劃建設新園區以容納未來新增的技術崗位。公司強調，裁員并非收縮，而是“騰籠換鳥”——削減冗余管理崗的同時，在光學、軟件、系統集成等核心領域加大招聘。